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在已开发的众多生长技术中,磁控溅射、金属有机物气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、电子束反应蒸镀法是生长出高度c轴择优取向优质薄膜的主要方法。
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The characteristic of thin film deposited by pulsed laser deposition in RF plasma
射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点
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我们采用YBCO作为STO薄膜的驱动电极,使用脉冲激光沉积的方法制备了叉指结构的电调薄膜.利用微波近场显微镜测量了电场对STO薄膜的介电性质的影响。
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评论了近年来制备薄膜阴极的方法,包括化学酸基溶解法、溶胶-凝胶法、激光焙烧法、增强型等离子体化学气相淀积法、脉冲激光法、电子束喷射沉积法和射频磁控溅射法。
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Cubic Boron Nitride Thin Films Prepared by Pulsed ArF Excimer Laser Deposition
ArF准分子激光立方氮化硼薄膜的制备
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以脉冲激光沉积法(PLD)制备的非晶态Ag05V2O5薄膜为阴极,真空热蒸发法制备的金属锂为阳极,LiPON薄膜为电解质,成功地制备了一个新的Li/LiPON/Ag05V2O5全固态薄膜锂电池。
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脉冲激光沉积制备ZnO薄膜及其发光性质研究
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A CdS thin film filter is grown on quartz substrate using femtosecond pulsed laser deposition.
采用脉冲飞秒激光沉积方法,在石英衬底上制备了CdS薄膜滤波器。
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热氧化法与PLD法制备ZnO薄膜及其特性
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脉冲激光沉积方法制备太阳电池材料硫化锡及其性质的研究
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首次采用355nm脉冲激光沉积在不锈钢基片上制备了氧化铋薄膜。
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Affect of ZnO Thin Film of Pulsed Laser Deposition by Substrate Temperatures
基片温度对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响
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采用纳米球蚀刻技术在石英衬底上制备了不同高度的金纳米颗粒阵列.
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